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차세대 반도체 품질 높일 새 관리 기준 나왔다

이정우 입력 2019.04.16. 03:39
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[앵커] 5G는 물론 인공지능, 사물인터넷 등 첨단 산업이 성장하면서 반도체 산업 또한 진화를 거듭하고 있습니다.

이런 가운데 제품 불량을 일으키는 전류 누설 현상을 미리 파악해서 반도체 품질을 높일 수 있는 관리 기준이 새로 제시됐습니다.

이정우 기자입니다.

[기자] 단 몇 초 만에 영화를 내려받을 수 있고, 가상현실과 사물인터넷 등 다양한 첨단 세계를 만날 수 있는 5G.

이 기술의 중심에는 반도체가 있습니다.

더 작고, 더 많은 데이터를 담으려면 반도체 안에 박막 층을 더 겹겹이 쌓아야 합니다.

문제는 이 과정에 전류가 새는 불량품인 이른바 '누설 전류' 반도체가 생겨난다는 점입니다.

이를 효율적으로 골라내 반도체 품질을 높일 수 있는 관리기준을 국내 연구진이 새로 제시했습니다.

연구팀은 누설 전류가 다층 반도체 표면 거칠기에 영향을 주는 것을 확인했습니다.

이를 통해 실리콘 표면의 거친 정도를 확인하면 '누설 전류' 유무를 알 수 있다는 겁니다.

[신채호 / 한국표준과학연구원 광전자융합장비팀 : (거칠기는) 반도체 소자의 신뢰성이 떨어지고요. 그것에 따라서 이제 전류가, 누설 전류가 생길 수도 있습니다. 그래서 거칠기를 확인하고 거칠기의 기준을 잡는 것이 매우 중요하다고 생각합니다.]

반도체 불량품을 관리하는 기준을 기존의 크기에 더해 거칠기 같은 입체적인 틀로 확대했다는 설명도 덧붙였습니다.

[김정원 / 한국표준과학연구원 나노구조측정센터장 : 생산성 향상에 크게 기여 할 수 있을 것으로 기대합니다. 또한, 세계를 선도할 수 있는 반도체 표준에 기틀을 마련할 수 있는 측정 방법입니다.]

국제학술지 '사이언티픽 리포츠'와 '울트라 마이크로스코피'에 연구성과가 소개됐습니다.

이번 연구는 산업 현장에서 이미 검증을 마쳤고, 반도체 생산 공정의 새로운 관리 기준으로 적용할 수 있어 의미가 큽니다.

YTN 이정우[leejwoo@ytn.co.kr]입니다.

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