SK하이닉스, 차세대 D램용 EUV공정 5兆 투자

최태원 SK그룹 회장이 지난 1일 SK하이닉스 경기도 이천 본사에서 개최한 M16 준공식에서 발언하고 있다. <SK하이닉스 제공>

[디지털타임스 박정일 기자] SK하이닉스가 차세대 D램 공정 양산 대응을 위해 약 5조원을 투자해 EUV(극자외선) 장치 10여대를 구매한다.

SK하이닉스는 24일 이사회를 열고 네덜란드 반도체 장비 업체인 ASML과 4조7549억원 규모의 EUV스캐너 구매를 결정했다고 공시했다. 계약은 오는 2025년 12월까지다.

업계에서는 금액 등을 고려할 때 앞으로 5년 간 10여대의 장비를 들여올 것으로 보고 있다. 이는 기계 구매와 설치 등까지 모두 포함한 금액으로, 비용은 분할 지불한다.

SK하이닉스 측은 "차세대 공정 양산 대응을 위한 EUV 확보"라고 구매 이유를 설명했다. EUV는 기존에 노광에 쓰이던 불화아르곤(ArF) 광원에 비해 14분의 1 미만으로 파장의 길이가 짧아서 얇고 세밀한 회로 패턴을 구현할 수 있는 것이 특징이다.

SK하이닉스는 이달 초 M16 공장을 준공하고 EUV 노광장비를 도입한 차세대 D램 생산라인을 구축하기로 했다. 올해에는 EUV 2대가 라인에 투입될 예정이다.

SK하이닉스는 공정 안정화 단계 등을 거친 뒤 올 하반기부터 EUV를 적용해 4세대 10나노급(1a) D램 제품을 생산할 것으로 예상된다.

한편 SK하이닉스는 내달 30일 정기주주총회를 열고 박정호 SK텔레콤 부회장을 사내이사로 선임하는 등의 안건을 처리할 예정이다. 박정일기자 comja77@dt.co.kr